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顾卫敏

2024年04月24日 21:50 []次



   顾卫敏,女,1986年04月出生,河北石家庄人,博士,硕士生导师,副教授,河北省燕赵英才A类人才。2008年毕业于东北大学应用化学专业,获学士学位;2010年毕业于东北大学高分子化学与物理专业,获硕士学位;2010-2019年于中船重工汉光科技股份有限公司工作;2022年毕业于中国科学院大学 中科院化学研究所有机化学专业,获博士学位。2023年入职河北工程大学能源与环境工程学院环境工程专业。


一、主要招生专业及研究方向

1、环境科学与工程

2、光电材料设计与研发;钙钛矿电池制备与性能研究;环境催化材料研究。

联系方式

QQ:443457690   

邮箱:

guweimin@hebeu.edu.cn

二、主要科研成果

1、河北省重大科技成果转化专项:“正充电型彩色打印机用有机光导鼓开发及产业化”,第一完成人;

2、河北省重大科技成果转化专项:“高速度长寿命复印机用有机光导鼓的研发及产业化”第四完成人;

3、承担的项目“负电型彩色激光打印机有机光导鼓”于2017年荣获邯郸市科学技术进步奖一等奖。

三、目前承担课题及经费

1、国家自然科学青年基金,62304067,原位聚合/自组装构建钙钛矿电池空穴提取

层及作用机理研究,2024-01至2026-12,30万元,主持。

2、河北省教育厅青年基金,QN2025337,锡基钙钛矿电池原位聚合空穴传输层构建及其诱导降解机理研究,2025-01至2027-12,5万,主持

3、河北工程大学创新基金,3DOM钙钛矿环境催化材料制备及催化机理研究,2024-01至2026-12,10万元,主持。

四、部分代表性论文(第一或通讯)

(1) 2,2’-Bipyridyl-4,4’-Dicarboxylic Acid Modified Buried Interface of High-Performance Perovskite Solar Cells, Angew. Chem. Int. Ed. 2025, 64(6), e202418176. (SCI一区) (共同一作)

(2) In-Situ Cyclized Polyacrylonitrile as an Electron Selective Layer for n-i-p Perovskite Solar Cell with Enhanced Efficiency and Stability,Angew. Chem. Int. Ed. 2024, e202403264. (SCI一区) (第一作者)

(3) Poly(3,4-Ethylenedioxythiophene) as a Hole-Transport Layer for Highly Efficient and Stable Inverted Perovskite Solar Cells, Chemical Engineering Journal, 2024, 485: 149512 (SCI一区) (第一作者)

(4) In-Situ Polymerization of PEDOT in Perovskite Thin Films for Efficient and Stable Photovoltaics, Chemical Engineering Journal, 2022, 430(3): 133109 (SCI一区) (第一作者)

(5) A multifunctional interlayer for highly stable and efficient perovskite solar cells based on pristine poly(3-hexylthiophene), Chemical Engineering Journal, 2022, 444: 136644  (SCI一区) (第一作者)

(6) Anion-exchange assisted sequential deposition for stable and efficient FAPbI3-based perovskite solar cells, Chemical Engineering Journal, 2022, 452(2): 139326  (SCI一区) (共同一作)

(7) Surface fluoride management for enhanced stability and efficiency of halide perovskite solar cells via a thermal evaporation method, Journal of Materials Chemistry A, 2022, 10: 12882-12889  (SCI二区) (共同一作)

 

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